В основе работы эффект поля. Изменение концентрации основных носителей заряда при поверхностном слое полупроводника под действием эл.поля.
При подачи Uси ток стока будет отсутствовать (из-за обр. напряжения на пн- переходе)
Режим насыщения: При подаче «-» на затвор, если же «+», то создаваемое Uзи поперечное эл. поле будет уменьшать концентрац.основ. нос.заряда(режим объединения)
а при Uзи > Uпорог. под затвором образуется инверсный слой роли проводящего канала между стоком и истоком. Меняя затворное напряжение, меняем толщину d и поперечное сечение канала между стоком и истоком. Управляем током стока путем изменения затворного напряжения
Канал н –типа
Канал р-типа
Схема включения с ОИ
Параметры
1)порог
2) Крутизна S = дельта(Iс)/ дельта (Uзи) | Uси =const
3)си допустимое
4)д = дельта(си)/ дельта (с) | зи =
Отсутствуют затраты энергии на управление, но выводится из строя от стат. электричества.