База (базовая поверхность) – поверхность или выполняющие ту же функцию сочетание поверхностей, ось, или точка, принадлежащие заготовке или изделию и используемые для базирования.
Базы подразделяются по своему назначению на конструкторские, технологические и измерительные базы.
Конструкторская база – база, используемая для определения положения детали или сборочной единицы в изделии (м. б. основной и вспомогательной).
Основная конструкторская база – принадлежащая данной детали или сборочной единице и используемая для определения её положения в изделии.
Вспомогательная конструкторская база – )_)_)_ используемая для определения положения присоединяемого к ним изделия (рис. 2.3).
Рис. 2.3. Конструкторские базы оси паразитной шестерни в узле:
1 и 2 – вспомогательные конструкторские базы;
3 и 4 – основные конструкторские базы.
Технологическая база – база, используемая для определения положения заготовки или изделия при изготовлении или ремонте (рис. 2.4).
Рис. 2.4. Комплект технологических баз, определяющих положение заготовок в приспособлениях: 1 – заготовки; 2 – фрезерное приспособление;3 – токарный патрон; I, II и III – технологические базы
Измерительная база – база, используемая для определения относительного положения заготовки или изделия и средств измерения.
На рис. 2.5 показано приспособление для контроля параллельности поверхности 1 относительно поверхности 2 (она же измерительная база А).
Рис. 2.5. Измерительная база 2 заготовки при контроле параллельности поверхностей 1 и 2
Независимо от своего назначения конструкторские, технологические и измерительные базы, по лишаемым ими степеням свободы у заготовки, могут быть: установочные, направляющие, опорные, двойные направляющие и двойные опорные.
Установочная база – база, лишающая заготовку или изделие трёх степеней свободы, а именно: перемещения вдоль одной координатной оси и поворотов вокруг двух других осей. На рис. 2.4, а установочной базой может служить поверх- ность I.
Направляющая база – база, лишающая заготовку или изделие двух степеней свободы, а именно: перемещения вдоль одной координатной оси и поворота вокруг другой оси.
Примером направляющей базы является поверхность II на рис. 2.4, а.
Опорная база – база, лишающая заготовку или изделие одной степени свободы, а именно: перемещения вдоль одной координатной оси или поворота вокруг оси.
Примером опорной базы является поверхность III на рис. 2.4,а,б.
Двойная направляющая база – база, лишающая заготовку или изделие четырёх степеней свободы, а именно: перемещения вдоль двух координатных осей и поворотов вокруг тех же осей.
Примером применения двойных направляющих баз является установка длинных цилиндрических заготовок в трёхкулачковом патроне (рис. 2.4, б, см. с. 17), на оправках или призмах (рис. 2.6). В этом случае наружная цилиндрическая поверхность или ось отверстия будут являться двойной направляющей базой.
Двойная опорная база – база, лишающая заготовку или изделие двух степеней свободы, а именно: перемещения вдоль двух координатных осей.
Примером применения двойной опорной базы может служить базирование заготовок типа «диск» в трёхкулачковый патрон (рис. 2.7, а), или на цилиндрический палец (рис. 2.7, б).
Рис. 2.7. Базирование заготовки детали типа «диск» в трёхкулачковом патроне с упором по торцу и на плоскость с координацией на ней по пальцу: I – установочная база; II – двойная опорная база
По характеру проявления на схемах базирования заготовок, в процессе их разработки, базы могут быть явные и скрытые.
Явная база – база заготовки или изделия в виде реальной поверхности, разметочной риски или точки пересечения рисок (рис. 2.4– базы I, II и III и рис. 2.7 – база I).
Скрытая база – база заготовки или изделия в виде воображаемой плоскости, оси или точки ( рис. 2.7 – база II).
